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重塑千禧年代 漁雪 (←)(快捷鍵:←)上一頁 書頁/目錄 下一章(快捷鍵:→)(→)

深紫外光刻加上自對準四重圖案化技術的處理計劃是來自英特爾對製造工藝極限的開辟，胡正明與梁孟淞在與英特爾交換合作FinFET以後根基確認了可行性。

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